13641824105
当前位置:首页 > 园区资讯
园区资讯
​集航天地:上海集成电路设计产业园
发布时间:2026-08-18 点击:20

集航天地:上海集成电路设计产业园  

项目概况  

集航天地位于上海市浦东新区盛夏路,地处上海集成电路设计产业园核心区域,南临规划一路、西临集创路、东临芳春路、北临集电路。项目预计于2026年竣工交付,用地性质为研发办公。项目总建筑面积约24.3万平方米,以产业研发功能为主,包括3栋高层研发塔楼、6栋独栋研发楼及配套设施,是集设园核心区新兴的研发办公载体。  

区位与产业环境  

项目地处上海集成电路设计产业园核心区位,周边集成电路、人工智能等先导产业高度集聚,产业生态成熟。区域内科研机构、高校及高新技术企业密集,为企业入驻及发展提供了良好的产业协同条件。项目临近集贤天地、集智天地等同区域项目,形成集设园核心区连片开发态势,产业集聚效应进一步强化。  

交通条件  

项目交通较为便利,距地铁13号线高科中路站约400米,步行可达。周边中环、龙东大道等城市快速路环绕,驾车可快速通达浦东国际机场、虹桥枢纽及陆家嘴、张江等核心商圈。  

产品与空间  

高层研发塔楼:标准层面积约2000至2500平方米。首层层高6.9米(大堂门厅部分8米),标准层层高约4.5米。首层荷载5.0KN/平方米,标准层荷载3.5KN/平方米。  

独栋研发楼:首层面积约500至1400平方米。首层层高5.6米,标准层层高4.4米。  

统一参数:交付标准为公共区域精装修。车位配比为每120平方米配1个车位。  

技术参数

总建筑面积:约24.3万平方米  

建筑构成:3栋高层研发塔楼+6栋独栋研发楼+配套设施  

竣工时间:2026年  

用地性质:研发办公  

高层塔楼标准层面积:约2000至2500平方米  

独栋研发首层面积:约500至1400平方米  

高层首层层高:6.9米(大堂门厅8米),标准层4.5米  

独栋首层层高:5.6米,标准层4.4米  

首层荷载:5.0KN/平方米  

标准层荷载:3.5KN/平方米  

交付标准:公共区域精装修  

车位配比:120平方米:1  

距地铁站:13号线高科中路站约400米

项目地址:上海市浦东新区盛夏路(普洛斯盛银大厦东侧约90米)

13641824105
李经理
 发送短信